دورية أكاديمية
Oxygen plasma etching for resist stripping and multilayer lithography.
العنوان: | Oxygen plasma etching for resist stripping and multilayer lithography. |
---|---|
المؤلفون: | Hartney, M. A., Hess, D. W., Soane, D. S. |
المصدر: | Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics Processing & Phenomena; 1989, Vol. 7 Issue 1, p1-13, 13p |
قاعدة البيانات: | Complementary Index |
تدمد: | 0734211X |
---|---|
DOI: | 10.1116/1.584440 |