دورية أكاديمية
Area-Selective Atomic Layer Deposition of TiN, TiO2, and HfO2 on Silicon Nitride with inhibition on Amorphous Carbon.
العنوان: | Area-Selective Atomic Layer Deposition of TiN, TiO |
---|---|
المؤلفون: | Eric Stevens, Yoann Tomczak, Chan, B. T., Altamirano Sanchez, Efrain, Parsons, Gregory N., Delabie, Annelies |
المصدر: | Chemistry of Materials; 5/22/2018, Vol. 30 Issue 10, p3223-3232, 10p |
قاعدة البيانات: | Supplemental Index |
كن أول من يترك تعليقا!