دورية أكاديمية

Reducing the β‑Ga2O3 Epitaxy Temperature to 240 °C via Atomic Layer Plasma Processing.

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Reducing the β‑Ga2O3 Epitaxy Temperature to 240 °C via Atomic Layer Plasma Processing.
المؤلفون: Ilhom, Saidjafarzoda, Mohammad, Adnan, Grasso, John, Willis, Brian G., Okyay, Ali K., Biyikli, Necmi
المصدر: ACS Applied Electronic Materials; 1/24/2023, Vol. 5 Issue 1, p335-343, 9p
قاعدة البيانات: Supplemental Index
الوصف
تدمد:26376113
DOI:10.1021/acsaelm.2c01353