دورية
Étude des mécanismes d'oxydation de couches minces ultra-dures par thermodiffractométrie X et ATG
| العنوان: | Étude des mécanismes d'oxydation de couches minces ultra-dures par thermodiffractométrie X et ATG |
|---|---|
| المؤلفون: | Fillit, R. Y., Goeuriot, D., Héau, C., Fillit, R. Y., Goeuriot, D., Héau, C. |
| المصدر: | Journal de Physique IV - Proceedings; September 2000, Vol. 10 Issue: 1 pPr10-505-Pr10-512, 50510503p |
| مستخلص: | Les couches minces obtenues par dépôt PVD (dépôt physique en phase vapeur) sont souvent métastables et présentent des propriétés de dureté et de stabilité en température telles qu'elles jouent un rôle prépondérant dans les domaines d'application où elles sont soumises à des contraintes thermo-mécaniques sévères. Ce type d'application peut entraîner des modifications structurales, des phénomènes d'oxydation et d'endommagement irréversibles dont il faut comprendre les mécanismes en vue de les maîtriser. La présente étude propose une analyse structurale de différentes couches obtenues par PVD : de type nitrures de chrome (Cr2Nxet CrNx) et aussi nitrure et boronitrure de titane (TiN, "TiNx(B)y"). L'association de trois techniques : l'analyse par diffraction des Rayons X sous incidence rasante (GIXRD), la thermodiffractométrie X (XRD-TIR) et l'analyse thermogravimétrique (ATG) nous a permis d'évaluer leur stabilité à haute température, à la fois intrinsèque et en atmosphère oxydante. Les couches ultra dures TiNx(B)yont montré une haute résistance thermique associée à des propriété mécaniques particulièrement remarquables. |
| قاعدة البيانات: | Supplemental Index |
| تدمد: | 11554339 17647177 |
|---|---|
| DOI: | 10.1051/jp4:20001054 |