التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: |
Study of the humidity-controlled CeO2 fixed-abrasive chemical mechanical polishing of a single crystal silicon wafer |
المؤلفون: |
Gengzhuo Li, Chen Xiao, Shibo Zhang, Shengquan Luo, Yuhan Chen, Yongbo Wu |
المصدر: |
Tribology International. 178:108087 |
بيانات النشر: |
Elsevier BV, 2023. |
سنة النشر: |
2023 |
مصطلحات موضوعية: |
Mechanics of Materials, Mechanical Engineering, Surfaces and Interfaces, Surfaces, Coatings and Films |
تدمد: |
0301-679X |
URL الوصول: |
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::28de9e368da38e3f85db4e70f177c0d9 https://doi.org/10.1016/j.triboint.2022.108087 |
حقوق: |
CLOSED |
رقم الأكسشن: |
edsair.doi...........28de9e368da38e3f85db4e70f177c0d9 |
قاعدة البيانات: |
OpenAIRE |