التفاصيل البيبلوغرافية
| العنوان: |
Study of the humidity-controlled CeO2 fixed-abrasive chemical mechanical polishing of a single crystal silicon wafer |
| المؤلفون: |
Gengzhuo Li, Chen Xiao, Shibo Zhang, Shengquan Luo, Yuhan Chen, Yongbo Wu |
| المصدر: |
Tribology International. 178:108087 |
| بيانات النشر: |
Elsevier BV, 2023. |
| سنة النشر: |
2023 |
| مصطلحات موضوعية: |
Mechanics of Materials, Mechanical Engineering, Surfaces and Interfaces, Surfaces, Coatings and Films |
| تدمد: |
0301-679X |
| URL الوصول: |
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::28de9e368da38e3f85db4e70f177c0d9
https://doi.org/10.1016/j.triboint.2022.108087 |
| حقوق: |
CLOSED |
| رقم الأكسشن: |
edsair.doi...........28de9e368da38e3f85db4e70f177c0d9 |
| قاعدة البيانات: |
OpenAIRE |
