THz Thin Film Varactor Based on Integrated Ferroelectric HfZrO2

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: THz Thin Film Varactor Based on Integrated Ferroelectric HfZrO2
المؤلفون: Sukhrob Abdulazhanov, Quang Huy Le, Dang Khoa Huynh, Defu Wang, David Lehninger, Thomas Kämpfe, Gerald Gerlach
المصدر: ACS Applied Electronic Materials. 5:189-195
بيانات النشر: American Chemical Society (ACS), 2022.
سنة النشر: 2022
مصطلحات موضوعية: Materials Chemistry, Electrochemistry, Electronic, Optical and Magnetic Materials
تدمد: 2637-6113
URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::95116b8c7f56496724fbaf7d0af8cf0b
https://doi.org/10.1021/acsaelm.2c01273
حقوق: OPEN
رقم الأكسشن: edsair.doi...........95116b8c7f56496724fbaf7d0af8cf0b
قاعدة البيانات: OpenAIRE