Photon flux dependent image resolution of reflective ptychographic microscope for extreme ultraviolet actinic mask metrology

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Photon flux dependent image resolution of reflective ptychographic microscope for extreme ultraviolet actinic mask metrology
المؤلفون: Hyun-Su Kim, Ricarda Nebling, Atoosa Dejkameh, Tao Shen, Yasin Ekinci, Iacopo Mochi
المصدر: Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology. 21
بيانات النشر: SPIE-Intl Soc Optical Eng, 2022.
سنة النشر: 2022
تدمد: 2708-8340
URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::96cb59a3dc8c69cd6ef073d672cdebf4
https://doi.org/10.1117/1.jmm.21.3.034002
رقم الأكسشن: edsair.doi...........96cb59a3dc8c69cd6ef073d672cdebf4
قاعدة البيانات: OpenAIRE