A c-axis aligned crystalline IGZO FET and a 0.06-μm2 HfO2-based Capacitor 1T1C FeRAM with High Voltage Tolerance and 10-ns Write Time

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: A c-axis aligned crystalline IGZO FET and a 0.06-μm2 HfO2-based Capacitor 1T1C FeRAM with High Voltage Tolerance and 10-ns Write Time
المؤلفون: M. Endo, S. Numata, K. Ohshima, Y. Egi, F. Isaka, T. Ohno, S. Tezuka, T. Hamada, K. Furutani, K. Tsuda, T. Matsuzaki, T. Onuki, T. Murakawa, H. Kunitake, M. Kobayashi, S. Yamazaki
المصدر: 2022 International Electron Devices Meeting (IEDM).
بيانات النشر: IEEE, 2022.
سنة النشر: 2022
URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::af173ed46fe9de1d4652cffc60f90d3b
https://doi.org/10.1109/iedm45625.2022.10019506
حقوق: CLOSED
رقم الأكسشن: edsair.doi...........af173ed46fe9de1d4652cffc60f90d3b
قاعدة البيانات: OpenAIRE