Realization of wafer-scale nanogratings with sub-50 nm period through vacancy epitaxy

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان:	Realization of wafer-scale nanogratings with sub-50 nm period through vacancy epitaxy
المؤلفون:	Qiushi Huang, Qi jia, Jiangtao Feng, Hao Huang, Xiaowei Yang, Joerg Grenzer, Kai Huang, Shibing Zhang, Jiajie Lin, Hongyan Zhou, Tiangui You, Wenjie Yu, Stefan Facsko, Philippe Jonnard, Meiyi Wu, Angelo Giglia, Zhong Zhang, Zhi Liu, Zhanshan Wang, Xi Wang, Xin Ou
المصدر:	Nature Communications, Vol 10, Iss 1, Pp 1-9 (2019)
بيانات النشر:	Nature Portfolio, 2019.
سنة النشر:	2019
المجموعة:	LCC:Science
مصطلحات موضوعية:	Science
الوصف:	Fabrication of wafer-scale nanogratings for X-ray spectroscopy is difficult especially for very high line densities. The authors use vacancy epitaxy to fabricate sub-50-nm-periodicity gratings, coated with multilayers for efficient operation, for use in ultra-high resolution x-ray spectroscopy.
نوع الوثيقة:	article
وصف الملف:	electronic resource
اللغة:	English
تدمد:	2041-1723
Relation:	https://doaj.org/toc/2041-1723
DOI:	10.1038/s41467-019-10095-2
URL الوصول:	https://doaj.org/article/c20da6ae27a34cc888da2e6b0ffc3180
رقم الأكسشن:	edsdoj.20da6ae27a34cc888da2e6b0ffc3180
قاعدة البيانات:	Directory of Open Access Journals

الوصف
تدمد:	20411723
DOI:	10.1038/s41467-019-10095-2