دورية أكاديمية
Electrical Properties of Titanium Nitride Thin Films Deposited by Reactive Sputtering
| العنوان: | Electrical Properties of Titanium Nitride Thin Films Deposited by Reactive Sputtering |
|---|---|
| المؤلفون: | T. Muto, K. Kawabata |
| المصدر: | Active and Passive Electronic Components, Vol 8, Iss 3-4, Pp 249-249 (1981) |
| بيانات النشر: | Wiley, 1981. |
| سنة النشر: | 1981 |
| المجموعة: | LCC:Electrical engineering. Electronics. Nuclear engineering |
| مصطلحات موضوعية: | Electrical engineering. Electronics. Nuclear engineering, TK1-9971 |
| نوع الوثيقة: | article |
| وصف الملف: | electronic resource |
| اللغة: | English |
| تدمد: | 0882-7516 1563-5031 |
| Relation: | https://doaj.org/toc/0882-7516; https://doaj.org/toc/1563-5031 |
| DOI: | 10.1155/APEC.8.249 |
| URL الوصول: | https://doaj.org/article/a33fdbb0ed6f4614b320dff4786de6b9 |
| رقم الأكسشن: | edsdoj.33fdbb0ed6f4614b320dff4786de6b9 |
| قاعدة البيانات: | Directory of Open Access Journals |
| تدمد: | 08827516 15635031 |
|---|---|
| DOI: | 10.1155/APEC.8.249 |