دورية أكاديمية

Impact of floating gate dry etching on erase characteristics in NOR flash memory

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Impact of floating gate dry etching on erase characteristics in NOR flash memory
المؤلفون: Lee, W.H., Dong-Kyu Lee, Young-Ho Na, Keon-Soo Kim, Kun-Ok Ahn, Kang-Deog Suh, Yonghan Roh
المصدر: IEEE Electron Device Letters IEEE Electron Device Lett. Electron Device Letters, IEEE. 23(8):476-478 Aug, 2002
قاعدة البيانات: IEEE Xplore Digital Library
الوصف
تدمد:07413106
15580563
DOI:10.1109/LED.2002.801305