دورية أكاديمية

Performance Optimization for Ferroelectric HfZrOx on a Ge Substrate by Modifying the Deposition Temperature

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Performance Optimization for Ferroelectric HfZrOx on a Ge Substrate by Modifying the Deposition Temperature
المؤلفون: Lyu, S., Jiang, P., Gao, Z., Yang, Y., Chen, Y., Wang, B., Chen, M., Wang, Y.
المصدر: IEEE Transactions on Nanotechnology IEEE Trans. Nanotechnology Nanotechnology, IEEE Transactions on. 23:139-143 2024
قاعدة البيانات: IEEE Xplore Digital Library
الوصف
تدمد:1536125X
19410085
DOI:10.1109/TNANO.2023.3338616