دورية أكاديمية

Vertically self-aligned buried junction formation for ultrahigh-density DRAM applications

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Vertically self-aligned buried junction formation for ultrahigh-density DRAM applications
المؤلفون: Beintner, J., Li, Y., Knorr, A., Chidambarrao, D., Voigt, P., Divakaruni, R., Pochmuller, P., Bronner, G.
المصدر: IEEE Electron Device Letters IEEE Electron Device Lett. Electron Device Letters, IEEE. 25(5):259-261 May, 2004
قاعدة البيانات: IEEE Xplore Digital Library
الوصف
تدمد:07413106
15580563
DOI:10.1109/LED.2004.826512