دورية أكاديمية

A reliability study of barrier-metal-clad copper interconnects with self-aligned metallic caps

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: A reliability study of barrier-metal-clad copper interconnects with self-aligned metallic caps
المؤلفون: Saito, T., Ashihara, H., Ishikawa, K., Miyauchi, M., Yamada, Y., Nakano, H.
المصدر: IEEE Transactions on Electron Devices IEEE Trans. Electron Devices Electron Devices, IEEE Transactions on. 51(12):2129-2135 Dec, 2004
قاعدة البيانات: IEEE Xplore Digital Library
الوصف
تدمد:00189383
15579646
DOI:10.1109/TED.2004.838512