Advanced high-K/metal gate charge trapping memories for post-45 nm node

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Advanced high-K/metal gate charge trapping memories for post-45 nm node
المؤلفون: Golubovic, D.S., Boutchich, M., Akil, N., Van Duuren, M.J.
المصدر: 2007 Non-Volatile Memory Technology Symposium Non-Volatile Memory Technology Symposium, 2007. NVMTS '07. :15-19 Nov, 2007
Relation: 2007 Non-Volatile Memory Technology Symposium
قاعدة البيانات: IEEE Xplore Digital Library
الوصف
ردمك:9781424413614
9781424413621
DOI:10.1109/NVMT.2007.4389937