Ti-based Barrier for Cu Interconnect Applications

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Ti-based Barrier for Cu Interconnect Applications
المؤلفون: Wu, W., Wu, H.-J., Dixit, G., Shaviv, R., Gao, M., Mountsier, T., Harm, G., Dulkin, A., Fuchigami, N., Kailasam, S. K., Klawuhn, E., Havemann, R. H.
المصدر: 2008 International Interconnect Technology Conference Interconnect Technology Conference, 2008. IITC 2008. International. :202-204 Jun, 2008
Relation: 2008 International Interconnect Technology Conference - IITC
قاعدة البيانات: IEEE Xplore Digital Library
الوصف
ردمك:9781424419111
9781424419128
تدمد:2380632X
23806338
DOI:10.1109/IITC.2008.4546967