دورية أكاديمية

Inversion-Mode Self-Aligned $\hbox{In}_{0.53}\hbox{Ga}_{0.47}\hbox{As}$ N-Channel Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor With HfAlO Gate Dielectric and TaN Metal Gate

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Inversion-Mode Self-Aligned $\hbox{In}_{0.53}\hbox{Ga}_{0.47}\hbox{As}$ N-Channel Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor With HfAlO Gate Dielectric and TaN Metal Gate
المؤلفون: Lin, J. Q., Lee, S. J., Oh, H. J., Lo, G. Q., Kwong, D. L., Chi, D. Z.
المصدر: IEEE Electron Device Letters IEEE Electron Device Lett. Electron Device Letters, IEEE. 29(9):977-980 Sep, 2008
قاعدة البيانات: IEEE Xplore Digital Library
الوصف
تدمد:07413106
15580563
DOI:10.1109/LED.2008.2001766