دورية أكاديمية

Lithography Options for the 32 nm Half Pitch Node and Beyond

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Lithography Options for the 32 nm Half Pitch Node and Beyond
المؤلفون: Ronse, K., Jansen, P., Gronheid, R., Hendrickx, E., Maenhoudt, M., Wiaux, V., Goethals, A.-M., Jonckheere, R., Vandenberghe, G.
المصدر: IEEE Transactions on Circuits and Systems I: Regular Papers IEEE Trans. Circuits Syst. I Circuits and Systems I: Regular Papers, IEEE Transactions on. 56(8):1884-1891 Aug, 2009
قاعدة البيانات: IEEE Xplore Digital Library
الوصف
تدمد:15498328
15580806
DOI:10.1109/TCSI.2009.2028417