دورية أكاديمية

Understanding Strain-Induced Drive-Current Enhancement in Strained-Silicon n-MOSFET and p-MOSFET

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Understanding Strain-Induced Drive-Current Enhancement in Strained-Silicon n-MOSFET and p-MOSFET
المؤلفون: Flachowsky, S., Wei, A., Illgen, R., Herrmann, T., Höntschel, J., Horstmann, M., Klix, W., Stenzel, R.
المصدر: IEEE Transactions on Electron Devices IEEE Trans. Electron Devices Electron Devices, IEEE Transactions on. 57(6):1343-1354 Jun, 2010
قاعدة البيانات: IEEE Xplore Digital Library
الوصف
تدمد:00189383
15579646
DOI:10.1109/TED.2010.2046461