High-k/metal gate innovations enabling continued CMOS scaling

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: High-k/metal gate innovations enabling continued CMOS scaling
المؤلفون: Frank, Martin M.
المصدر: 2011 Proceedings of the ESSCIRC (ESSCIRC) ESSCIRC (ESSCIRC), 2011 Proceedings of the. :50-58 Sep, 2011
Relation: ESSCIRC 2011 - 37th European Solid State Circuits Conference
قاعدة البيانات: IEEE Xplore Digital Library
الوصف
ردمك:9781457707025
9781457707032
9781457707049
تدمد:19308833
DOI:10.1109/ESSCIRC.2011.6044913