دورية أكاديمية

Are Interface State Generation and Positive Oxide Charge Trapping Under Negative-Bias Temperature Stressing Correlated or Coupled?

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Are Interface State Generation and Positive Oxide Charge Trapping Under Negative-Bias Temperature Stressing Correlated or Coupled?
المؤلفون: Ho, T. J. J., Ang, D. S., Boo, A. A., Teo, Z. Q., Leong, K. C.
المصدر: IEEE Transactions on Electron Devices IEEE Trans. Electron Devices Electron Devices, IEEE Transactions on. 59(4):1013-1022 Apr, 2012
قاعدة البيانات: IEEE Xplore Digital Library
الوصف
تدمد:00189383
15579646
DOI:10.1109/TED.2012.2185243