دورية أكاديمية

The effect of the elevated source/drain doping profile on performance and reliability of deep submicron MOSFETs

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: The effect of the elevated source/drain doping profile on performance and reliability of deep submicron MOSFETs
المؤلفون: Sun, J.J., Bartholomew, R.F., Bellur, K., Srivastava, A., Osburn, C.M., Masnari, N.A.
المصدر: IEEE Transactions on Electron Devices IEEE Trans. Electron Devices Electron Devices, IEEE Transactions on. 44(9):1491-1498 Sep, 1997
قاعدة البيانات: IEEE Xplore Digital Library
الوصف
تدمد:00189383
15579646
DOI:10.1109/16.622606