Exploring ESD challenges in sub-20-nm bulk FinFET CMOS technology nodes

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان:	Exploring ESD challenges in sub-20-nm bulk FinFET CMOS technology nodes
المؤلفون:	Chen, Shih-Hung, Hellings, Geert, Thijs, Steven, Linten, Dimitri, Scholz, Mirko, Groeseneken, Guido
المصدر:	2013 35th Electrical Overstress/Electrostatic Discharge Symposium Electrical Overstress/Electrostatic Discharge Symposium (EOS/ESD), 2013 35th. :1-8 Sep, 2013
Relation:	2013 35th Electrical Overstress/Electrostatic Discharge Symposium (EOS/ESD)
قاعدة البيانات:	IEEE Xplore Digital Library

الوصف
ردمك:	9781585372324
تدمد:	07395159