مؤتمر
Exploring ESD challenges in sub-20-nm bulk FinFET CMOS technology nodes
العنوان: | Exploring ESD challenges in sub-20-nm bulk FinFET CMOS technology nodes |
---|---|
المؤلفون: | Chen, Shih-Hung, Hellings, Geert, Thijs, Steven, Linten, Dimitri, Scholz, Mirko, Groeseneken, Guido |
المصدر: | 2013 35th Electrical Overstress/Electrostatic Discharge Symposium Electrical Overstress/Electrostatic Discharge Symposium (EOS/ESD), 2013 35th. :1-8 Sep, 2013 |
Relation: | 2013 35th Electrical Overstress/Electrostatic Discharge Symposium (EOS/ESD) |
قاعدة البيانات: | IEEE Xplore Digital Library |
كن أول من يترك تعليقا!