Fundamental diffusion issues for deep-submicron device processing

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Fundamental diffusion issues for deep-submicron device processing
المؤلفون: Cowern, N.E.B., Jaraiz, M., Cristiano, F., Claverie, A., Mannino, G.
المصدر: International Electron Devices Meeting 1999. Technical Digest (Cat. No.99CH36318) Electron devices Electron Devices Meeting, 1999. IEDM '99. Technical Digest. International. :333-336 1999
Relation: International Electron Devices Meeting 1999. Technical Digest
قاعدة البيانات: IEEE Xplore Digital Library
الوصف
ردمك:0780354109
9780780354104
DOI:10.1109/IEDM.1999.824163