دورية أكاديمية

Controlling the Current Conduction Asymmetry of HfO2 Metal–Insulator–Metal Diodes by Interposing Al2O3 Layer

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Controlling the Current Conduction Asymmetry of HfO2 Metal–Insulator–Metal Diodes by Interposing Al2O3 Layer
المؤلفون: Jeon, W., Salicio, O., Chaker, A., Gonon, P., Vallee, C.
المصدر: IEEE Transactions on Electron Devices IEEE Trans. Electron Devices Electron Devices, IEEE Transactions on. 66(1):402-406 Jan, 2019
قاعدة البيانات: IEEE Xplore Digital Library
الوصف
تدمد:00189383
15579646
DOI:10.1109/TED.2018.2881220