دورية أكاديمية

Potential of Utilizing High- $k$ Film to Improve the Cost Performance of Trench LDMOS

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Potential of Utilizing High- $k$ Film to Improve the Cost Performance of Trench LDMOS
المؤلفون: Cheng, J., Chen, W., Lin, J., Li, P., Yi, B., Huang, H., Chen, X.B.
المصدر: IEEE Transactions on Electron Devices IEEE Trans. Electron Devices Electron Devices, IEEE Transactions on. 66(7):3049-3054 Jul, 2019
قاعدة البيانات: IEEE Xplore Digital Library
الوصف
تدمد:00189383
15579646
DOI:10.1109/TED.2019.2913780