دورية أكاديمية

Comparison of Si3N4–SiO2 and SiO2 Insulation Layer for Zero-Bias CMUT Operation Using Dielectric Charging Effects

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Comparison of Si3N4–SiO2 and SiO2 Insulation Layer for Zero-Bias CMUT Operation Using Dielectric Charging Effects
المؤلفون: Choi, W.Y., Lee, C.H., Kim, Y.H., Park, K.K.
المصدر: IEEE Transactions on Ultrasonics, Ferroelectrics, and Frequency Control IEEE Trans. Ultrason., Ferroelect., Freq. Contr. Ultrasonics, Ferroelectrics, and Frequency Control, IEEE Transactions on. 67(4):879-882 Apr, 2020
قاعدة البيانات: IEEE Xplore Digital Library
الوصف
تدمد:08853010
15258955
DOI:10.1109/TUFFC.2019.2950902