دورية أكاديمية

Large-Scale Fabrication of Submicrometer-Gate-Length MOSFETs With a Trilayer PtSe2 Channel Grown by Molecular Beam Epitaxy

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Large-Scale Fabrication of Submicrometer-Gate-Length MOSFETs With a Trilayer PtSe2 Channel Grown by Molecular Beam Epitaxy
المؤلفون: Xiong, K., Hilse, M., Li, L., Goritz, A., Lisker, M., Wietstruck, M., Kaynak, M., Engel-Herbert, R., Madjar, A., Hwang, J.C.M.
المصدر: IEEE Transactions on Electron Devices IEEE Trans. Electron Devices Electron Devices, IEEE Transactions on. 67(3):796-801 Mar, 2020
قاعدة البيانات: IEEE Xplore Digital Library
الوصف
تدمد:00189383
15579646
DOI:10.1109/TED.2020.2966434