دورية أكاديمية

Performance and Low-Frequency Noise of 22-nm FDSOI Down to 4.2 K for Cryogenic Applications

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Performance and Low-Frequency Noise of 22-nm FDSOI Down to 4.2 K for Cryogenic Applications
المؤلفون: Cardoso Paz, B., Casse, M., Theodorou, C., Ghibaudo, G., Kammler, T., Pirro, L., Vinet, M., de Franceschi, S., Meunier, T., Gaillard, F.
المصدر: IEEE Transactions on Electron Devices IEEE Trans. Electron Devices Electron Devices, IEEE Transactions on. 67(11):4563-4567 Nov, 2020
قاعدة البيانات: IEEE Xplore Digital Library
الوصف
تدمد:00189383
15579646
DOI:10.1109/TED.2020.3021999