دورية أكاديمية

Process and electrical (modulator) efficiency of plasma immersion ion implantation

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Process and electrical (modulator) efficiency of plasma immersion ion implantation
المؤلفون: Xiubo Tian, Xuchu Zeng, Chu, P.K.
المصدر: IEEE Transactions on Plasma Science IEEE Trans. Plasma Sci. Plasma Science, IEEE Transactions on. 29(3):529-535 Jun, 2001
قاعدة البيانات: IEEE Xplore Digital Library
الوصف
تدمد:00933813
19399375
DOI:10.1109/27.928952