التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: |
Reliability of Ferroelectric and Antiferroelectric Si:HfO2 materials in 3D capacitors by TDDB studies |
المؤلفون: |
Viegas, A., Falidas, K., Ali, T., Kuhnel, K., Hoffmann, R., Mart, C., Czernohorsky, M., Heitmann, J. |
المصدر: |
2022 IEEE International Reliability Physics Symposium (IRPS) Reliability Physics Symposium (IRPS), 2022 IEEE International. :P47-1-P47-5 Mar, 2022 |
Relation: |
2022 IEEE International Reliability Physics Symposium (IRPS) |
قاعدة البيانات: |
IEEE Xplore Digital Library |