دورية أكاديمية
Step-flow growth of homoepitaxial ZnO thin layers by halide vapor phase epitaxy using ZnCl 2 and H 2O source gases
العنوان: | Step-flow growth of homoepitaxial ZnO thin layers by halide vapor phase epitaxy using ZnCl 2 and H 2O source gases |
---|---|
المؤلفون: | Masuda, Rui, Fujii, Tetsuo, Yoshii, Naoki, Kumagai, Yoshinao, Koukitu, Akinori |
المصدر: | In Journal of Crystal Growth 2010 312(16):2324-2327 |
قاعدة البيانات: | ScienceDirect |
تدمد: | 00220248 |
---|---|
DOI: | 10.1016/j.jcrysgro.2010.05.005 |