دورية أكاديمية

Step-flow growth of homoepitaxial ZnO thin layers by halide vapor phase epitaxy using ZnCl 2 and H 2O source gases

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Step-flow growth of homoepitaxial ZnO thin layers by halide vapor phase epitaxy using ZnCl 2 and H 2O source gases
المؤلفون: Masuda, Rui, Fujii, Tetsuo, Yoshii, Naoki, Kumagai, Yoshinao, Koukitu, Akinori
المصدر: In Journal of Crystal Growth 2010 312(16):2324-2327
قاعدة البيانات: ScienceDirect
الوصف
تدمد:00220248
DOI:10.1016/j.jcrysgro.2010.05.005