دورية أكاديمية

The role of the HfO 2–TiN interface in capacitance–voltage nonlinearity of Metal-Insulator-Metal capacitors

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: The role of the HfO 2–TiN interface in capacitance–voltage nonlinearity of Metal-Insulator-Metal capacitors
المؤلفون: Wenger, Ch., Lukosius, M., Weidner, G., Müssig, H.-J., Pasko, S., Lohe, Ch.
المصدر: In Thin Solid Films 2009 517(23):6334-6336
قاعدة البيانات: ScienceDirect
الوصف
تدمد:00406090
DOI:10.1016/j.tsf.2009.02.074