دورية أكاديمية

Challenge of ashing and cleaning on SiOC-H dielectric: characterization and main issues

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Challenge of ashing and cleaning on SiOC-H dielectric: characterization and main issues
المؤلفون: Louveau, O. , Louis, D., Assous, M., Blanc, R., Brun, P., Lamy, S., Lajoinie, E.
المصدر: In Microelectronic Engineering 2002 61:867-874
قاعدة البيانات: ScienceDirect
الوصف
تدمد:01679317
DOI:10.1016/S0167-9317(02)00486-0