دورية أكاديمية

Copper electroplating into deep microvias for the “SiP” application

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Copper electroplating into deep microvias for the “SiP” application
المؤلفون: Fang, Cheng, Le Corre, Alain, Yon, Dominique
المصدر: In Microelectronic Engineering 2011 88(5):749-753
قاعدة البيانات: ScienceDirect
الوصف
تدمد:01679317
DOI:10.1016/j.mee.2010.07.034