دورية أكاديمية

Copper electroplating into deep microvias for the “SiP” application

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Copper electroplating into deep microvias for the “SiP” application
المؤلفون: Fang, Cheng, Le Corre, Alain, Yon, Dominique
المصدر: In Microelectronic Engineering 2011 88(5):749-753
قاعدة البيانات: ScienceDirect