دورية أكاديمية
Low EOT GeO2/Al2O3/HfO2 on Ge substrate using ultrathin Al deposition
العنوان: | Low EOT GeO2/Al2O3/HfO2 on Ge substrate using ultrathin Al deposition |
---|---|
المؤلفون: | Mather, S., Sedghi, N., Althobaiti, M., Mitrovic, I.Z., Dhanak, V., Chalker, P.R., Hall, S. |
المصدر: | In Microelectronic Engineering September 2013 109:126-128 |
قاعدة البيانات: | ScienceDirect |
تدمد: | 01679317 |
---|---|
DOI: | 10.1016/j.mee.2013.03.032 |