دورية أكاديمية

Ultrathin homogeneous Ni(Al) germanosilicide layer formation on strained SiGe with Al/Ni multi-layers

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Ultrathin homogeneous Ni(Al) germanosilicide layer formation on strained SiGe with Al/Ni multi-layers
المؤلفون: Liu, Linjie, Jin, Lei, Knoll, Lars, Wirths, Stephan, Buca, Dan, Mussler, Gregor, Holländer, Bernhard, Xu, Dawei, Di, Zeng Feng, Zhang, Miao, Mantl, Siegfried, Zhao, Qing-Tai
المصدر: In Microelectronic Engineering 2 April 2015 137:88-91
قاعدة البيانات: ScienceDirect
الوصف
تدمد:01679317
DOI:10.1016/j.mee.2014.11.022