دورية أكاديمية

Influence of AlN spacer and GaN cap layer in GaN heterostructure for RF HEMT applications

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Influence of AlN spacer and GaN cap layer in GaN heterostructure for RF HEMT applications
المؤلفون: Kaneriya, R.K., Karmakar, Chiranjit, Rastogi, Gunjan, Patel, M.R., Upadhyay, R.B., Kumar, Punam, Bhattacharya, A.N.
المصدر: In Microelectronic Engineering 1 February 2022 255
قاعدة البيانات: ScienceDirect
الوصف
تدمد:01679317
DOI:10.1016/j.mee.2022.111724