دورية أكاديمية
Plasma implantation using high-energy ions and short high voltage pulses
العنوان: | Plasma implantation using high-energy ions and short high voltage pulses |
---|---|
المؤلفون: | Rossi, J.O., Tan, I.H., Ueda, M. |
المصدر: | In Nuclear Inst. and Methods in Physics Research, B January 2006 242(1-2):328-331 |
قاعدة البيانات: | ScienceDirect |
تدمد: | 0168583X |
---|---|
DOI: | 10.1016/j.nimb.2005.08.055 |