دورية أكاديمية

Plasma implantation using high-energy ions and short high voltage pulses

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Plasma implantation using high-energy ions and short high voltage pulses
المؤلفون: Rossi, J.O., Tan, I.H., Ueda, M.
المصدر: In Nuclear Inst. and Methods in Physics Research, B January 2006 242(1-2):328-331
قاعدة البيانات: ScienceDirect
الوصف
تدمد:0168583X
DOI:10.1016/j.nimb.2005.08.055