دورية أكاديمية
Atomistic description of Si etching with HCl
| العنوان: | Atomistic description of Si etching with HCl |
|---|---|
| المؤلفون: | Martinez, Biel, Li, Jing, Prats, Hector, Sklénard, Benoit |
| المصدر: | In Applied Surface Science 1 June 2024 657 |
| قاعدة البيانات: | ScienceDirect |
Full Text Finder | تدمد: | 01694332 |
|---|---|
| DOI: | 10.1016/j.apsusc.2024.159836 |