دورية أكاديمية
Plasma enhanced atomic layer deposition of copper: A comparison of precursors
| العنوان: | Plasma enhanced atomic layer deposition of copper: A comparison of precursors |
|---|---|
| المؤلفون: | Hagen, D.J., Connolly, J., Nagle, R., Povey, I.M., Rushworth, S., Carolan, P., Ma, P., Pemble, M.E. |
| المصدر: | In Surface & Coatings Technology 15 September 2013 230:3-12 |
| قاعدة البيانات: | ScienceDirect |
Full Text Finder | تدمد: | 02578972 |
|---|---|
| DOI: | 10.1016/j.surfcoat.2013.06.066 |