دورية أكاديمية

Atomic Migration of Cu on the Surface of Si/Ti/Ni/Cu/Ag Thin Films

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Atomic Migration of Cu on the Surface of Si/Ti/Ni/Cu/Ag Thin Films
المؤلفون: Lee, Pei-Ing, Wu, Po-Ching, Chuang, Tung-HanAff1, Aff2, IDs1166402209573z_cor3
المصدر: Journal of Electronic Materials. 51(7):3624-3636
قاعدة البيانات: Springer Nature Journals
الوصف
تدمد:03615235
1543186X
DOI:10.1007/s11664-022-09573-z