دورية أكاديمية

The evolution of the ion implantation damage in device processing

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: The evolution of the ion implantation damage in device processing
المؤلفون: Polignano, M. L., Mica, I., Bontempo, V., Cazzaniga, F., Mariani, M., Mauri, A., Pavia, G., Sammiceli, F., Spoldi, G.
المصدر: Journal of Materials Science: Materials in Electronics. December 2008 19(1):182-188
قاعدة البيانات: Springer Nature Journals
الوصف
تدمد:09574522
1573482X
DOI:10.1007/s10854-008-9630-4