دورية أكاديمية

Deposition and characterization for high-quality Ti–Ni–Cu thin films with higher Cu content

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Deposition and characterization for high-quality Ti–Ni–Cu thin films with higher Cu content
المؤلفون: Li, Jun, Yi, Xiao-Yang, Zheng, Yu, Wang, Jing, Wang, Hai-Zhen, Meng, Xiang-LongAff2, Gao, Zhi-Yong, Ma, Yue-Hui
المصدر: Rare Metals. 40(8):2127-2133
قاعدة البيانات: Springer Nature Journals
الوصف
تدمد:10010521
18677185
DOI:10.1007/s12598-020-01489-z