دورية أكاديمية

Effect of post-annealing temperature on the dielectric function of solution-processed LaAlO x /Si Films

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Effect of post-annealing temperature on the dielectric function of solution-processed LaAlO x /Si Films
المؤلفون: Kim, Tae Jung, Park, Jae Chan, Hwang, Soon Yong, Byun, Jun Seok, Park, Han Gyeol, Kang, Yu Ri, Kim, Young Dong, Hwang, Soo Min, Lee, Seung Muk, Joo, Jinho
المصدر: Journal of the Korean Physical Society. May 2014 64(10):1509-1513
قاعدة البيانات: Springer Nature Journals
الوصف
تدمد:03744884
19768524
DOI:10.3938/jkps.64.1509