دورية أكاديمية

Spin Injection Behavior of CoFe/MgO/Si Tunnel Contacts: Effects of Radical Oxygen Annealing

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Spin Injection Behavior of CoFe/MgO/Si Tunnel Contacts: Effects of Radical Oxygen Annealing
المؤلفون: Akushichi, TaijuAff1, Aff2, IDs11664023106064_cor1, Takamura, Yota, Shiotsu, Yusaku, Yamamoto, Shuu’ichirou, Sugahara, Satoshi
المصدر: Journal of Electronic Materials. 52(10):6902-6910
قاعدة البيانات: Springer Nature Journals
الوصف
تدمد:03615235
1543186X
DOI:10.1007/s11664-023-10606-4