دورية أكاديمية

SIMS of Organic Materials—Interface Location in Argon Gas Cluster Depth Profiles Using Negative Secondary Ions

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: SIMS of Organic Materials—Interface Location in Argon Gas Cluster Depth Profiles Using Negative Secondary Ions
المؤلفون: Havelund, R.Aff1, Seah, M. P., Tiddia, M., Gilmore, I. S.
المصدر: Journal of The American Society for Mass Spectrometry: The official journal of The American Society for Mass Spectrometry . 29(4):774-785
قاعدة البيانات: Springer Nature Journals
الوصف
تدمد:10440305
18791123
DOI:10.1007/s13361-018-1905-2