دورية أكاديمية

The Reliability Impact of Bi Doping on the HfO2 Charge-Trapping Layer: A First-Principles Study

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: The Reliability Impact of Bi Doping on the HfO2 Charge-Trapping Layer: A First-Principles Study
المؤلفون: Ye, Fengyu, Zhu, Ying, Yuan, Jun-HuiAff1, IDs11664024110660_cor3, Wang, JiafuAff1, Aff2, IDs11664024110660_cor4
المصدر: Journal of Electronic Materials. 53(7):3756-3767
قاعدة البيانات: Springer Nature Journals
الوصف
تدمد:03615235
1543186X
DOI:10.1007/s11664-024-11066-0